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| Titre : | Étude du contact arrière en aluminium après l'attaque chimique dans l’acide fluorhydrique (HF) pour le dépôt de nickel et cuivre par voie chimique | | Type de document : | theses et memoires | | Auteurs : | Celiline Sekhi ; Djedjiga Hatem, Directeur de thèse | | Editeur : | Tizi-Ouzou : U.M.M.T.O | | Année de publication : | 2020 | | Importance : | 74 p. | | Présentation : | ill. | | Format : | 30 cm | | Note générale : | Bibliogr. | | Langues : | Français | | Mots-clés : | Cellule photovoltaïque SiNx Photolithographie Résine photosensible Contacts (Al, Cu) Attaque chimique Acide fluorhydrique (HF) Aluminium Nickel | | Résumé : | Ce mémoire s'est focalisé sur le développement et l'optimisation de la technique de photolithographie pour le dépôt sélectif de contacts en cuivre permettant la métallisation des cellules solaire à haut rendement.
Dans la première partie, nous avons déposé une couche de résine photosensible sur des plaquettes en silicium multicristallin (SiNx (1-8) /n+ mc-Si/Al) par centrifugation (spin-on) et gravure de SiNx avec la résine comme masque pour former le motif de grille. Ensuite, nous avons déposé une couche de résine sur la face arrière avec la même technique sur quelques échantillons (SiNx (1-6) /n+ mc- Si/Al) ; pour les autres échantillons (SiNx (7-8) /n+ mc-Si/Al) nous avons déposé une couche de vernis isolant manuellement dans le but de protéger le contact arrière durant le décapage de la couche antireflet SiNx (Après attaque chimique dans l'HF).
La deuxième partie, est dédiée à l'analyse des résultats obtenus. Différentes caractérisations ont été faites pour compléter notre étude, comprenant :
On a fait des mesures R carrée (?/?) sur différents échantillons.
On a fait des analyses par microscope optique. Cette mesure est essentielle pour observer et définir les caractéristiques de la grille réalisée par la technique photolithographie, à savoir la largeur des doigts et des bus-bars.
La caractérisation par le MEB nous a permis d'analyser la morphologie de la face arrière et ainsi étudié la qualité du contact Al après décapage de la couche antireflet durant le traitement HF.
Grace au profilomètre, nous avons pu mesurer la largeur et la profondeur des contacts (doigts et bus-bars) en fonction du temps d'immersion dans l'HF.
Des résultats très prometteurs ont été obtenus et permettent d'envisager une ouverture potentielle vers de nouvelle structure de cellules photovoltaïque à haut rendement. | | En ligne : | D:\CD THESES 2020\MAST.ELN\SEKHI CELILINE.PDF | | Format de la ressource électronique : | PDF | | Permalink : | ./index.php?lvl=notice_display&id=35288 |
Étude du contact arrière en aluminium après l'attaque chimique dans l’acide fluorhydrique (HF) pour le dépôt de nickel et cuivre par voie chimique [theses et memoires] / Celiline Sekhi ; Djedjiga Hatem, Directeur de thèse . - Tizi-Ouzou (Tizi-Ouzou) : U.M.M.T.O, 2020 . - 74 p. : ill. ; 30 cm. Bibliogr. Langues : Français | Mots-clés : | Cellule photovoltaïque SiNx Photolithographie Résine photosensible Contacts (Al, Cu) Attaque chimique Acide fluorhydrique (HF) Aluminium Nickel | | Résumé : | Ce mémoire s'est focalisé sur le développement et l'optimisation de la technique de photolithographie pour le dépôt sélectif de contacts en cuivre permettant la métallisation des cellules solaire à haut rendement.
Dans la première partie, nous avons déposé une couche de résine photosensible sur des plaquettes en silicium multicristallin (SiNx (1-8) /n+ mc-Si/Al) par centrifugation (spin-on) et gravure de SiNx avec la résine comme masque pour former le motif de grille. Ensuite, nous avons déposé une couche de résine sur la face arrière avec la même technique sur quelques échantillons (SiNx (1-6) /n+ mc- Si/Al) ; pour les autres échantillons (SiNx (7-8) /n+ mc-Si/Al) nous avons déposé une couche de vernis isolant manuellement dans le but de protéger le contact arrière durant le décapage de la couche antireflet SiNx (Après attaque chimique dans l'HF).
La deuxième partie, est dédiée à l'analyse des résultats obtenus. Différentes caractérisations ont été faites pour compléter notre étude, comprenant :
On a fait des mesures R carrée (?/?) sur différents échantillons.
On a fait des analyses par microscope optique. Cette mesure est essentielle pour observer et définir les caractéristiques de la grille réalisée par la technique photolithographie, à savoir la largeur des doigts et des bus-bars.
La caractérisation par le MEB nous a permis d'analyser la morphologie de la face arrière et ainsi étudié la qualité du contact Al après décapage de la couche antireflet durant le traitement HF.
Grace au profilomètre, nous avons pu mesurer la largeur et la profondeur des contacts (doigts et bus-bars) en fonction du temps d'immersion dans l'HF.
Des résultats très prometteurs ont été obtenus et permettent d'envisager une ouverture potentielle vers de nouvelle structure de cellules photovoltaïque à haut rendement. | | En ligne : | D:\CD THESES 2020\MAST.ELN\SEKHI CELILINE.PDF | | Format de la ressource électronique : | PDF | | Permalink : | ./index.php?lvl=notice_display&id=35288 |
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Étude du contact arrière en aluminium après l'attaque chimique dans l’acide fluorhydrique (HF) pour le dépôt de nickel et cuivre par voie chimique (2020) 
