Titre :	Etude et optimisation du séchage et de l'insolation de la résine photosensible pour le dépôt sélectif de contact au cuivre
Type de document :	theses et memoires
Auteurs :	Dalila Sitayeb ; Dalila Hocine, Directeur de thèse
Editeur :	Tizi-Ouzou : U.M.M.T.O T.O
Année de publication :	2019
Importance :	69 p.
Présentation :	ill.
Format :	30 cm
Note générale :	Bibliogr.
Langues :	Français
Mots-clés :	Cuivre  Résine  Insolation  Séchage  Cellule photovoltaïque  Rayonnement solaire  Photolithographie  Spectre de réflectance
Résumé :	Dans la première partie, on a optimisé des paramètres de dépôt de la résine photosensible par spin-on sur wafer de silicium monocristallin. Ainsi, nous avons étudié et optimisé le séchage et l'insolation de la résine photosensible pour le dépôt sélectif de contact au cuivre. On a changé les différents paramètres au cours du dépôt, séchage et l’insolation (vitesse de rotation, temps de dépôt, le temps et l'intensité de la lumière au niveau de la résine photosensible pendant l’insolation). Après cette étape, on a procédé directement au développement de la couche déposée afin d’éliminer la résine dans la grille des contactes. La deuxième partie est dédiée à l’analyse des résultats obtenus. Différentes caractérisations ont été faites pour compléter notre étude, comprenant : - On a fait des mesures R carrée (O/? ) sur différente échantillons. - On a fait des analyses par microscope optique. Cette mesure est essentielle pour observer et définir les caractéristiques de la grille réalisée par la technique photolithographie, à savoir la largeur des doigts et des bus-bars. - La mesure des épaisseurs des résines photosensibles s’est faite grâce à un profilomètre et à l’aide d’un Microscope Electronique à Balayage (MEB). - Les spectres de réflexion optique ont été étudiés dans la région spectrale de 300 nm à 1500nm. Toutes les résines élaborés avaient une réflectance élevée (~ 24 - 28%).
En ligne :	D:\CD THESES 2019\MAST.ELN\SITAYEB DALILA.PDF
Format de la ressource électronique :	PDF
Permalink :	./index.php?lvl=notice_display&id=34785

Etude et optimisation du séchage et de l'insolation de la résine photosensible pour le dépôt sélectif de contact au cuivre [theses et memoires] / Dalila Sitayeb ; Dalila Hocine, Directeur de thèse . - Tizi-Ouzou (Tizi-Ouzou) : U.M.M.T.O T.O, 2019 . - 69 p. : ill. ; 30 cm.
Bibliogr.
Langues : Français

Mots-clés :	Cuivre  Résine  Insolation  Séchage  Cellule photovoltaïque  Rayonnement solaire  Photolithographie  Spectre de réflectance
Résumé :	Dans la première partie, on a optimisé des paramètres de dépôt de la résine photosensible par spin-on sur wafer de silicium monocristallin. Ainsi, nous avons étudié et optimisé le séchage et l'insolation de la résine photosensible pour le dépôt sélectif de contact au cuivre. On a changé les différents paramètres au cours du dépôt, séchage et l’insolation (vitesse de rotation, temps de dépôt, le temps et l'intensité de la lumière au niveau de la résine photosensible pendant l’insolation). Après cette étape, on a procédé directement au développement de la couche déposée afin d’éliminer la résine dans la grille des contactes. La deuxième partie est dédiée à l’analyse des résultats obtenus. Différentes caractérisations ont été faites pour compléter notre étude, comprenant : - On a fait des mesures R carrée (O/? ) sur différente échantillons. - On a fait des analyses par microscope optique. Cette mesure est essentielle pour observer et définir les caractéristiques de la grille réalisée par la technique photolithographie, à savoir la largeur des doigts et des bus-bars. - La mesure des épaisseurs des résines photosensibles s’est faite grâce à un profilomètre et à l’aide d’un Microscope Electronique à Balayage (MEB). - Les spectres de réflexion optique ont été étudiés dans la région spectrale de 300 nm à 1500nm. Toutes les résines élaborés avaient une réflectance élevée (~ 24 - 28%).
En ligne :	D:\CD THESES 2019\MAST.ELN\SITAYEB DALILA.PDF
Format de la ressource électronique :	PDF
Permalink :	./index.php?lvl=notice_display&id=34785